問(wèn)：在使用中為什么有些金屬鍍不上？

答：直流磁控濺射儀器針對(duì)不同金屬需要調(diào)整不同的參數(shù)，靶材厚度、本底真空度、氬氣環(huán)境、電流大小、磁場(chǎng)強(qiáng)弱都對(duì)鍍膜起著決定性的作用。比較容易鍍的金屬銅、銀、金等，日常鍍膜不容易鍍的金屬鉻、鎳、鋁、鈦等

問(wèn)：為什么剛開(kāi)始使用時(shí)可以鍍上，用過(guò)一段時(shí)間就不太好鍍了？

答：可能存在磁場(chǎng)減弱，導(dǎo)致磁場(chǎng)無(wú)法穿透有些靶材。形成原因可能是在鍍膜時(shí)候忘記打開(kāi)水冷機(jī)，高溫導(dǎo)致靶頭字長(zhǎng)減弱，磁場(chǎng)很難穿透厚的樣品，難以起輝。建議在選擇靶材的時(shí)候可以選擇薄一些的靶材，且在設(shè)備使用時(shí)候先打開(kāi)水冷機(jī)，避免操作失誤導(dǎo)致磁場(chǎng)減弱。

問(wèn)：真空度在越來(lái)越難以抽下去怎么辦？

答：1、鍍膜越久，腔體內(nèi)部積累的膜層越厚，此時(shí)各種縫隙很容易藏空氣，導(dǎo)致真空度難以抽下去，建議在使用一段時(shí)間后，草酸清洗內(nèi)部涂層。若涂層難以去除，可用砂紙或者鋼絲球打磨，注意不要破壞玻璃罩上下邊緣。

2、玻璃罩在使用過(guò)程中會(huì)不小心磕碰到邊緣，會(huì)出現(xiàn)細(xì)小的裂紋及豁口，導(dǎo)致真空度下不去，如果是這種情況建議及時(shí)更換。3、在操作過(guò)程中，玻璃罩需要經(jīng)常取下，導(dǎo)致玻璃罩上下密封圈污染，密封不嚴(yán)。可以每次在測(cè)試之前用棉簽擦拭密封圈及玻璃罩上下邊緣。

問(wèn)：在濺射時(shí)電壓上升至1000V，或者低于300V導(dǎo)致不起輝或者起輝不正常？

答：上升至1000V是設(shè)備短路，將靶材罩?jǐn)Q開(kāi)一些，距離靶材壓環(huán)大概3mm左右。電壓低于300V是靶材接觸不良，將靶材取下，用細(xì)砂紙打磨靶材和底座，使其接觸良好，若靶材太薄，可用銅靶材當(dāng)作背板。

問(wèn)：使用時(shí)候設(shè)備打火是什么情況？

答：靶頭底部有個(gè)peek絕緣板，長(zhǎng)時(shí)間邊緣會(huì)鍍上金屬，這樣在鍍膜時(shí)導(dǎo)致短路打火燒壞。如果已經(jīng)出現(xiàn)燒壞的現(xiàn)象需要把絕緣板卸下來(lái)用砂紙打磨下再裝回去或者直接更換新的。建議使用一段時(shí)間后打磨絕緣板，避免金屬涂層積累。

設(shè)備維護(hù)：

1、每次做完實(shí)驗(yàn)后，如果長(zhǎng)時(shí)間不用，可以運(yùn)行真空泵，保持腔體內(nèi)密封，避免內(nèi)部污染。

2、腔體內(nèi)部涂層積累及時(shí)清理，確保本底真空度，使鍍膜時(shí)達(dá)到一個(gè)更好的狀態(tài)。

3、設(shè)備運(yùn)行時(shí)先打開(kāi)水冷機(jī)，避免因高溫消磁靶座。

4、及時(shí)打磨PEEK絕緣板，避免沉積過(guò)多金屬層導(dǎo)致短路。

5、應(yīng)避免電源工作在周?chē)袚]發(fā)性可燃液體、腐蝕性液體、導(dǎo)電纖維粉塵較多的場(chǎng)所。

6、請(qǐng)勿在設(shè)備上面放置較重的雜物和盛有液體的容器，應(yīng)避免電源遭受雨水浸淋和日光直接照射。